Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
Mặt nạ phòng độc
1 / 1

Mặt nạ phòng độc

5.0
3 đánh giá
1 đã bán

Mặt nạ phòng độc  6200 loại vừa là mặt nạ được thiết kế mềm mại tạo cảm giác thoải mái khi mang và hệ thống phin lọc cung cấp không khí sẽ làm tối đa sự thoải mái cho người sử dụng.Mặt nạ nửa mặt  6200 có những tính năng ưu việt sẽ cung cấp những lợi ích vượt trội cho

145.000₫
-66%
49.000
Share:
Dụng Cụ Tổng Hợp Minh Tú

Dụng Cụ Tổng Hợp Minh Tú

@trantuanh1992
4.7/5

Đánh giá

493

Theo Dõi

2.915

Nhận xét

Mặt nạ phòng độc  6200 loại vừa là mặt nạ được thiết kế mềm mại tạo cảm giác thoải mái khi mang và hệ thống phin lọc cung cấp không khí sẽ làm tối đa sự thoải mái cho người sử dụng.Mặt nạ nửa mặt  6200 có những tính năng ưu việt sẽ cung cấp những lợi ích vượt trội cho người mang nó. Mặt nạ nửa mặt được thiết kế để bảo vệ người sử dụng làm việc trong môi trường độc hại. Được làm bằng silicon nên rất mềm mại và thoải mái khi sử dụng. Không để lại dấu khi mang trong thời gian dài. Thiết kế độc đáo với van thở ra Cool Flow™ giúp gia tăng sự thoải mái và vừa với khuôn mặt hơn. Có thể sử dụng với phin lọc series 2000, 5000, 6000 và 7093. Sử dụng: Trong môi trường bụi chứa dầu Trong môi trường bụi không chứa dầu Trong môi trường khói bụi; khói độc; khói đám cháy. Một số ngành nghề cụ thể:  Phun PU+ Hàn + Cắt đúc kim loại + Sơn hóa chất LƯU Ý KHI SỬ DỤNG Rửa sạch với nước và làm khô mặt nạ sau mỗi lần sử dụng. Không sử dụng các hóa chất để rửa mặt nạ. Bảo quản mặt nạ và phin lọc trong túi kín. Thay mặt nạ trong những trường hợp sau: Không đảm bảo độ kín (xuất hiện vết nứt, rách) Người mang ngưởi thấy mùi hóa chất Người mang cảm thấy khó thở Người mang cảm thấy chóng mặt, ngứa…

Loại bảo hành

Bảo hành nhà sản xuất

Tên tổ chức chịu trách nhiệm sản xuất

Đang cập nhật

Địa chỉ tổ chức chịu trách nhiệm sản xuất

Đang cập nhật

Hạn bảo hành

6 tháng

Sản Phẩm Tương Tự

*Sản phẩm được thu thập tự động để tiếp thị. Chúng tôi không bán hàng.